ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的新應(yīng)用

在蒽醌法雙氧水生產(chǎn)過(guò)程中，氫化反應(yīng)單元與氧化反應(yīng)單元作為核心環(huán)節(jié)，不僅直接關(guān)系到產(chǎn)品質(zhì)量，還面臨著氫氣閃爆、過(guò)氧化氫分解爆炸及芳烴燃燒等重大**風(fēng)險(xiǎn)。特別是氫化工藝與過(guò)氧化工藝，其潛在的反應(yīng)失控風(fēng)險(xiǎn)不容忽視。因此，實(shí)施有效的氧含量監(jiān)測(cè)，對(duì)于保障雙氧水生產(chǎn)的穩(wěn)定運(yùn)行、提升產(chǎn)品質(zhì)量以及預(yù)防**事故具有至關(guān)重要的意義。

針對(duì)雙氧水生產(chǎn)裝置的關(guān)鍵監(jiān)測(cè)點(diǎn)，我們進(jìn)行了如下設(shè)置：

1. 氫氣總管氧含量監(jiān)測(cè)：在氫化單元啟動(dòng)前，需采用氮?dú)鈱?duì)涉氫管道及設(shè)備系統(tǒng)進(jìn)行置換，確保氧氣濃度低于2%（體積分?jǐn)?shù)），并設(shè)置氫氣氧含量檢測(cè)儀，從源頭上防控氧含量超標(biāo)風(fēng)險(xiǎn)。ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的新應(yīng)用

2. 氫化尾氣氧含量監(jiān)測(cè)：為防止工作液中的微量過(guò)氧化氫被夾帶到氫化塔內(nèi)分解引發(fā)爆炸，需對(duì)尾氣中的氧含量進(jìn)行嚴(yán)格控制，確保其濃度低于2%（體積分?jǐn)?shù)）。

3. 氫化塔頂氧含量監(jiān)測(cè)：塔頂出口氧含量過(guò)高存在閃爆風(fēng)險(xiǎn)，因此同樣需將尾氣氧含量控制在2%（體積分?jǐn)?shù)）以下。

4. 氧化尾氣氧含量監(jiān)測(cè)：氧化塔頂部出口管線中氣體的氧含量直接反映了氧化反應(yīng)的充分程度。氧含量過(guò)高不僅表明反應(yīng)不充分，還可能與工作液中的重芳烴形成混合爆炸物，引發(fā)裝置爆炸。因此，氧含量的**檢測(cè)對(duì)于生產(chǎn)**至關(guān)重要。

傳統(tǒng)的磁壓力式氧分析儀雖然具有一定的測(cè)量精度，但其易受氣體預(yù)處理系統(tǒng)影響，且預(yù)處理過(guò)程復(fù)雜、維護(hù)成本高。相比之下，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)基于先進(jìn)的TDLAS技術(shù)原理，具有響應(yīng)速度快、測(cè)量精度高、維護(hù)方便等顯著優(yōu)勢(shì)。ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的新應(yīng)用

在某化工廠20萬(wàn)噸雙氧水裝置中，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)（O2:0-5%）已成功應(yīng)用于氫化尾氣氧含量監(jiān)測(cè)工藝點(diǎn)。該系統(tǒng)通過(guò)半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)氫氣尾氣中氧含量的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，有效避免了因氧含量過(guò)高而引發(fā)的裝置爆炸風(fēng)險(xiǎn)。

主要技術(shù)原理及特點(diǎn)：

• 激光氣體分析儀測(cè)量原理：利用激光能量被氣體分子“選頻”吸收的特性，通過(guò)測(cè)量激光強(qiáng)度的衰減信息來(lái)分析被測(cè)氣體的濃度。

• 單線光譜技術(shù)：選擇特定波長(zhǎng)的吸收光譜線，避免背景氣體組分的交叉吸收干涉，確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

• 激光頻率掃描技術(shù)：通過(guò)周期性調(diào)制激光頻率，自動(dòng)修正粉塵和視窗污染對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響。ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的新應(yīng)用

• 譜線展寬自動(dòng)修正技術(shù)：根據(jù)溫度和壓力信號(hào)自動(dòng)修正氣體譜線展寬對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響，確保數(shù)據(jù)的**性。

此外，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)還具有檢測(cè)靈敏度高、響應(yīng)速度快、一體化設(shè)計(jì)、結(jié)構(gòu)緊湊、可靠性高以及智能化程度高、操作維護(hù)方便等特點(diǎn)。其主要技術(shù)指標(biāo)包括光通道長(zhǎng)度小于15米、響應(yīng)時(shí)間小于1秒、線性誤差小于±1%F.S.等，維護(hù)周期和標(biāo)定周期均為3-6個(gè)月，防護(hù)等級(jí)達(dá)到IP66，防爆等級(jí)為Exd Ⅱ CT6 Gb。

綜上所述，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的應(yīng)用，不僅提升了氧含量的測(cè)量精度和響應(yīng)速度，還有效降低了維護(hù)成本和**風(fēng)險(xiǎn)，為雙氧水生產(chǎn)的穩(wěn)定運(yùn)行提供了有力保障。

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